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新凱來｜中國光刻機躍進 挑戰龍頭ASML
By 信報財經新聞 on April 1, 2025
原文刊於信報財經新聞「CEO AI⎹ EJ Tech」
深圳晶片設備商新凱來（SiCarrier）近日於上海中國國際半導體展（SEMICON China）高調亮相，聲稱已開發28納米製程、300毫米晶圓用光刻機，引發市場議論，荷蘭半導體設備生產商艾斯摩爾（ASML）的壟斷地位受挑戰。
新凱來稱已開發28納米製程
新凱來近日展示涵蓋光刻、蝕刻、薄膜沉積與量測檢測等30餘項產品。該企更聲稱已開發28納米製程、300毫米晶圓用光刻機，並計劃明年前推出跟ASML相容的升級版。
新凱來於2021年成立，由深圳市政府資助，其技術長戴軍亦為中芯國際（00981）董事與國家積體電路產業投資基金二期監事，故被視為國家背景的開發商。
2023年，新凱來因取得一項使用DUV技術製造5納米晶片的專利而受到矚目，當時外界認為該技術與華為Mate 60 Pro內建的7納米晶片有關。
新凱來的迅速崛起，引發業界高度關注。不少意見認為，它可能引發對ASML壟斷地位的挑戰，但實際影響仍有待該企成果落地。
ASML部分業務或遷離歐洲
ASML早前表示，若歐洲無法保障其技術與營運環境，不排除日後把部分業務移置別處。ASML行政總裁Christophe Fouquet接受《經濟學人》訪問時強調，歐洲應先考量自身利益，避免在地緣政治壓力下犧牲本土科企。
作為全球唯一能量產極紫外光（EUV）光刻機的公司，ASML旗下產品可以製造7納米以下人工智能（AI）晶片，更是台積電、三星、英特爾等各地先進製程晶圓廠不可或缺的設備。但受美國出口管制影響，ASML不得向中國出口先進EUV機器，ASML預估中國業務比重將從去年的36%降至今年的20%。
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